Description:

Sina Multifunctional LiposonixCorpus attenuanteLipo+ Hifu 2 in 1 Treatment System Hifu Facial Apparatus levandi Salon,
Corpus attenuante, Sinae Lipsonix,

Product Detail

Handlepiece	Pic	Officium
Unipolar RF		industria Unipolaris RF utitur ad metabolismum textus adipositi accelerandum, visibiliter cutis delenimenta. RF industria coacta in profundioribus cutis sine molestia patientis stratis utitur.
Vacuum RF		BiPolar RF cum vacuo loci industria creat, superficialis calefactio dermal

Thermolift lineamenta dielectric Heating - unica mechanisma, qua alta radiofrequentia (RF) industria 40.68 MHz (40,68 decies centena millia signa per alterum mittens) directe in textura transmittitur, gyrationis aquae moleculae celeris causans.Hoc

rotatio frictionem generat, quae calorem potentem et efficacem producit.Quia cutis plerumque ex aqua componitur, calefactio ex hac mechanismo contractionem voluminetricam inducit in fibris cuticulis exsistentibus et stimulat.

formatio novarum collagenium cum sua crassitudine et alignment meliore.Altitudo RF frequentiam permittit pro alta, homogenea calefactione quae uniformes proventus producit.

●Modi dual RF efficiunt calorem medendi intra textus clypei duobus modis:

BiPolar RF industria localem creat, superficialem calefactionem dermal

UniPolar technologiam RF industriam coactam in altioribus laminis cutis sine molestia patientis liberat.

In-Motion™ Technology

In-motionTM technology repraesentat breakthrough in patiente consolatione et

processus celeritatis, cum iterabili eventuum orci.In motu

ars involvit movere applicator saepe in scopum regio;

applicando industriam in magnis eget malesuada euismod ad reshaing et contouring magnas areas.

In motu praebet gradatim constructum-ex calore in scopum TEXTUS donec

attingit ad medicinam temperiem, dum commodius curatio

sine periculo iniuriae.

Sina Multifunctionalis Liposonix Corpus attenuante Lipo + Hifu 2 in 1 Curatio Ratio Hifu Facialis Apparatus levandi Salon,
Sinae LipsonixCorpus attenuante,